|
|
| 您现在的位置：→ 产品展示 →电镀/溅镀系统 | [上一页][下一页] | |||||
| 电镀/溅镀系统 | ||||||
| 溅镀的原理： 主要利用辉光放电(glow discharge)将氩气(Ar)离子撞击靶材(target)表面, 靶材的原子被弹出而堆积在基板表面形成薄膜。溅镀薄膜的性质、均匀度都比蒸镀薄膜来的好, 但是镀膜速度却比蒸镀慢很多。新型的溅镀设备几乎都使用强力磁铁将电子成螺旋状运动以加速 靶材周围的氩气离子化, 造成靶与氩气离子间的撞击机率增加,提高溅镀速率。 一般金属镀膜大都采用直流溅镀,而不导电的陶磁材料则使用RF交流溅镀,基本的原理是在真空中利用辉光放电(glow discharge)将氩气(Ar)离子撞击靶材(target)表面，电浆中的阳离子会加速冲向作为被溅镀材的负电极表面，这个冲击将使靶材的物质飞出 而沉积在基板上形成薄膜。 溅镀的应用范围： 真空溅镀EMI具有高导电性和高电磁屏蔽效率等特点，广泛应用于通讯制品(移动电话)、电脑(笔记本)、便携式电子产品、消费电子、网络硬件(服务器等)、医疗仪器、家用电子产品和航空航天及国防等电子设备的EMI屏蔽。适用于各种塑胶制品的金属屏蔽（PC、PC+ABS、ABS等）。 |
||||||
 |
 |
 |
 |
|||
| 真空电镀系统 | 真空电镀系统 | 真空磁控溅镀机 | 真空机 | |||
 |
 |
 |
 |
|||
| 真空溅镀系统 | 真空溅镀系统 | 水电镀系统 | 水电镀系统 | |||
 |
 |
 |
 |
|||
| 电子配件水电镀系统 | 电子配件水电镀系统 | 饰件漆喷涂系统 | 真空电镀涂装系统（灯罩） | |||
| | 版权所有★盗版必究 | (1998-2008) 设计制作：丰裕推广课-资讯课 建议使用分辨率1024*768 |